一部の研究者は、平面マグネトロン反応性スパッタリング法により、透明導(dǎo)電膜を備えたガラス基板上にエレクトロクロミック薄膜-アモルファス酸化タングステン薄膜を堆積し、研究したと報(bào)告されています。
詳細(xì)については、次をご覧ください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
Ｘ線回折分析の結(jié)果は、室溫で得られた膜がアモルファスであることを示した。 0.2N濃度のHClを電解質(zhì)として、H +注入および抽出後のアモルファス酸化タングステン薄膜の光學(xué)特性を、電気化學(xué)的方法と、この変化と膜調(diào)製パラメータとの関係によって研究しました。 酸化タングステン膜を堆積するためのほぼ最適なプロセス條件が得られました。 1.2 W / cm2のスパッタリングパワー密度と1.3 Paのスパッタリングガス圧で、純酸素雰囲気で、調(diào)製されたアモルファス酸化タングステン膜の50電気化學(xué)サイクル後、漂白狀態(tài)および著色狀態(tài)の可視光透過(guò)率は 差は約0.57で、電気化學(xué)サイクルの色変化壽命も長(zhǎng)いです。 光電子分光分析は、H +注入後に著色膜にW5 +およびW4 +が現(xiàn)れることを示しました。
