離子注入是近三十年來國際上蓬勃發(fā)展和廣泛應用的一種材料表面改性高新技術，實現(xiàn)了材料的表面性能的優(yōu)化或可以獲得某些新的優(yōu)異性能。由于此項高新技術獨特而突出的特點，在現(xiàn)代集成電路制造中是一項非常重要的技術。它利用離子注入機實現(xiàn)半導體的摻雜，改變半導體的導電性與晶體管結構。
由于在離子注入時，離子源轉換為電漿離子會產生2000℃以上的工作溫度，離子束噴發(fā)的時候也會產生很大的離子動能，一般的金屬很快就會燒熔。因此，需要質量和密度都相對較大的惰性金屬，以維持離子束的噴發(fā)方向和增加組件耐用度。鎢材料的高溫化學性能穩(wěn)定，熱變性小和使用壽命長等優(yōu)點，成為了半導體行業(yè)離子注入機離子源件及耗材的首選，發(fā)射陰極的屏蔽筒、發(fā)射面板、中心固定桿、起弧室內絲極板等這些都統(tǒng)稱為離子注入鎢零件。
離子注入工藝
離子注入鎢零件圖片
